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全額退還增值稅涉及的研發(fā)機構(gòu)和實驗儀器介紹

點擊: 次 時間:2016-11-28 10:11

一、概述

我國繼續(xù)對內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)和外資研發(fā)中心采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅,其中8類研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅。除此此外,《科技開發(fā)、科學研究和教學設備清單》中明確了四大類別的設備。

二、詳細介紹

財政部、商務部、國家稅務總局近日印發(fā)《關(guān)于繼續(xù)執(zhí)行研發(fā)機構(gòu)采購設備增值稅政策的通知》,《通知》明確,適用采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅政策的內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)和外資研發(fā)中心包括:

(一)科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務總局核定的科技體制改革過程中轉(zhuǎn)制為企業(yè)和進入企業(yè)的主要從事科學研究和技術(shù)開發(fā)工作的機構(gòu);

(二)國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務總局核定的國家工程研究中心;

(三)國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心;

(四)科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務總局核定的國家重點實驗室和國家工程技術(shù)研究中心;

(五)國務院部委、直屬機構(gòu)和省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市所屬專門從事科學研究工作的各類科研院所;

(六)國家承認學歷的實施專科及以上高等學歷教育的高等學校;

(七)符合本通知第二條規(guī)定的外資研發(fā)中心;

(八)財政部會同國務院有關(guān)部門核定的其他科學研究機構(gòu)、技術(shù)開發(fā)機構(gòu)和學校。

  《通知》明確,外資研發(fā)中心根據(jù)其設立時間應分別滿足下列條件:

(一)2009年9月30日及其之前設立的外資研發(fā)中心,應同時滿足下列條件:

1.研發(fā)費用標準:(1)對外資研發(fā)中心,作為獨立法人的,其投資總額不低于500萬美元;作為公司內(nèi)設部門或分公司的非獨立法人的,其研發(fā)總投入不低于500萬美元;(2)企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于1000萬元。

2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。

3.設立以來累計購置的設備原值不低于1000萬元。

(二)2009年10月1日及其之后設立的外資研發(fā)中心,應同時滿足下列條件:

1.研發(fā)費用標準:作為獨立法人的,其投資總額不低于800萬美元;作為公司內(nèi)設部門或分公司的非獨立法人的,其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。

3.設立以來累計購置的設備原值不低于2000萬元。

外資研發(fā)中心須經(jīng)商務主管部門會同有關(guān)部門按照上述條件進行資格審核認定。具體審核認定辦法見附件1。在2015年12月31日(含)以前,已取得退稅資格未滿2年暫不需要進行資格復審的、按規(guī)定已復審合格的外資研發(fā)中心,在2015年12月31日享受退稅未滿2年的,可繼續(xù)享受至2年期滿。

經(jīng)認定的外資研發(fā)中心,因自身條件變化不再符合退稅資格的認定條件或發(fā)生涉稅違法行為的,不得享受退稅政策。

通知稱,具體退稅管理辦法由國家稅務總局會同財政部另行制定。

《科技開發(fā)、科學研究和教學設備清單》明確四大類別設備:  

一、實驗環(huán)境方面

(一)教學實驗儀器及裝置;

(二)教學示教、演示儀器及裝置;

(三)超凈設備(如換氣設備、滅菌儀器、純水設備、凈化設備等);

(四)特殊實驗環(huán)境設備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設備等);

(五)特殊電源、光源設備;

(六)清洗循環(huán)設備;

(七)恒溫設備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等);

(八)小型粉碎、研磨制備設備。

二、樣品制備設備和裝置

(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等);

(二)培養(yǎng)設備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等);

(三)微量取樣設備(如取樣器、電子精密天平等);

(四)分離、純化、濃縮設備(如離心機、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等);

(五)氣體、液體、固體混合設備(如旋渦混合器等);

(六)制氣設備、氣體壓縮設備;

(七)專用制樣設備(如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等),實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設備;實驗室樣品前處理設備。

三、實驗室專用設備

(一)特殊照相和攝影設備(如水下、高空、高溫、低溫等);

(二)科研飛機、船舶用關(guān)鍵設備;

(三)特種數(shù)據(jù)記錄設備(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等);

(四)材料科學專用設備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機,材料實驗機等),可靠性試驗設備,微電子加工設備,通信模擬仿真設備,通信環(huán)境試驗設備;

(五)小型熔煉設備(如真空、粉末、電渣等),特殊焊接設備;

(六)小型染整、紡絲試驗專用設備;

(七)電生理設備。

四、計算機工作站,中型、大型計算機。

(內(nèi)容來源中國化工儀器網(wǎng))

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